Pelapisan sputtering Magnetron adalah jenis baru metode pelapisan uap fisik. Ia menggunakan sistem senjata elektron untuk memancarkan dan memfokuskan elektron pada material yang akan dilapisi, sehingga atom yang tergagap mengikuti prinsip konversi momentum, sehingga memberikan sifat mekanik yang lebih tinggi pada material. Bahan yang akan dilapisi disebut target sputtering, yang sebagian besar meliputi logam, paduan, dan senyawa keramik. Perusahaan kami dapat menyediakan berbagai jenis target logam datar atau semprot, dan pada awal Maret, pelanggan Brasil telah berhasil menerima 99,95% Target Sputter Zirkonium yang kami kirim melalui pengiriman ekspres internasional. Pelanggan mempercayai hubungan kerja sama kami dan memuji kualitas produk, proses produksi, serta ukuran dan bentuk yang disesuaikan. Produk FANMETAL telah lulus pemeriksaan kualitas oleh institusi profesional, sehingga Anda dapat memesan produk kami dengan percaya diri.
Target Sputtering Putar Zirkonium terutama terbuat dari logam zirkonium dengan kemurnian tinggi setelah penempaan, sintering suhu tinggi, penggulungan dan pemolesan. Mereka dapat digunakan untuk menyemprotkan alat pemrosesan logam atau produk elektronik dengan lapisan film zirkonium yang keras, tahan aus, tahan korosi, dan indah. lapisan, sehingga meningkatkan kinerja dan masa pakai sirkuit terpadu, instrumen optik, atau sel surya. Zirkonium 702 Planar Target memiliki sifat yang sangat baik seperti kemurnian tinggi, kinerja pemrosesan yang baik, kecepatan pelapisan yang cepat dan kualitas tinggi, ketahanan korosi, ketahanan suhu tinggi, ketahanan aus, masa pakai yang lama, dll. Dapat menyediakan komponen yang sangat penting dalam industri kimia atau industri dirgantara. Perlindungan lapisan yang baik terhadap korosi dan ketahanan terhadap suhu tinggi dan rendah juga dapat digunakan dalam industri pelapisan kaca area luas dan industri teknik elektronik.
