Sputtering Target

Target Sputtering Titanium Aluminium

Deskripsi Target Titanium Aluminium Sputtering Target sputtering mengacu pada bahan baku yang digunakan dalam proses pengendapan sputtering, yang mengacu pada proses mengeluarkan atom dari target

Tambahkan ke Pertanyaan
Sasaran Iridium

Bahan:Ir. Kemurnian:Lebih besar dari atau sama dengan 99,99%(4N). Kepadatan:22,56 gram/cm³. Diameter:Φ Lebih besar dari atau sama dengan 20mm. Ketebalan:1-15mm atau disesuaikan. Lebar:10-150mm.

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputter Silikon Aluminium

Aluminium Silicon Sputter Target adalah target sputter paduan yang terdiri dari aluminium dan silikon, terutama digunakan dalam proses deposisi uap fisik (PVD). Melalui teknik seperti magnetron

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Boron B.

Boron B Target is a high-purity metal target material used in PVD or CVD processes. It is made of boron as the main component and is made into a dense block through powder metallurgy or hot pressing.

Tambahkan ke Pertanyaan
Target logam platinum

Target logam platinum adalah bahan fungsional yang terbuat dari platinum kemurnian tinggi (PT) sebagai bahan baku, menampilkan titik leleh yang tinggi, ketahanan korosi yang kuat, konduktivitas

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Cobalt Chromium Tungsten

Target Cobalt Chromium tungsten adalah jenis target logam yang digunakan untuk lapisan sputtering. Ini terbuat dari kobalt, kromium, tungsten dan elemen logam lainnya dengan ketahanan aus yang sangat

Tambahkan ke Pertanyaan
99,99% kemurnian nikel ni target sputtering

99,99% Target Nikel NI NI Sputtering adalah target sputtering yang terbuat dari bahan nikel kemurnian tinggi dengan konduktivitas listrik yang baik, konduktivitas termal, resistensi korosi dan

Tambahkan ke Pertanyaan
Target sputtering yttrium aluminium oksida

Target sputtering yttrium aluminium oksida adalah sejenis target keramik yang terbuat dari yttrium oksida dan aluminium oksida melalui proses tertentu. Mereka sering digunakan dalam instrumen optik,

Tambahkan ke Pertanyaan
Target aluminium silikon (AL/SI)

Target sputtering aluminium silikon (AL/SI) adalah target paduan yang terbuat dari aluminium dan silikon. Mereka dapat menahan suhu tinggi dan pemboman ion selama sputtering untuk mendapatkan film

Tambahkan ke Pertanyaan
Target bulat silikon aluminium

Target bundar silikon aluminium adalah target paduan yang terbuat dari bahan silikon aluminium dengan kemurnian tinggi melalui teknologi pemrosesan presisi. Ini memainkan peran penting dalam banyak

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Zirkonium ZR702

Target zirkonium ZR702 adalah target putaran dengan kemurnian tinggi yang terbuat dari zirkonium, yang memiliki kekuatan tinggi, stabilitas kimia yang baik, konduktivitas listrik yang kuat dan

Tambahkan ke Pertanyaan
99,95% target NB2O5 murni

99,95% target NB2O5 murni adalah sumber sputtering yang membentuk berbagai film fungsional pada substrat melalui sputtering magnetron, pelapisan ion multi-arc atau jenis sistem pelapisan lainnya

Tambahkan ke Pertanyaan

Rumah 12 3 4 5 6 7 Halaman terakhir 1/11

Kami terkenal sebagai salah satu produsen dan pemasok target sputtering terkemuka di Cina. Jika Anda akan membeli target sputtering berkualitas tinggi dengan harga bersaing, selamat datang untuk mendapatkan penawaran harga dari pabrik kami. Juga, layanan yang disesuaikan tersedia.

(0/10)