Sputtering Target adalah jenis bahan khusus, terutama digunakan dalam industri pelapisan film dan pelapisan vakum. Perusahaan kami memiliki hubungan kerjasama yang baik dengan pelanggan Singapura mengenai target logam. Pelanggan Singapura, yang sebelumnya memuji pengerjaan logam kami, memesan sejumlah Target Sputtering Tembaga dari kami. Kami telah berkomunikasi dengan pelanggan selama beberapa waktu mengenai ukuran produk, jumlah pesanan, harga, dan waktu pengiriman.
Kami mengatur produksi langsung setelah konfirmasi penerimaan pembayaran. Kami menggunakan logam tembaga dengan kemurnian tinggi dalam pemilihan material, dan melalui proses sintering, peleburan, penggulungan, penempaan, perlakuan panas, dan pemesinan suhu tinggi. Target Sputtering Tembaga (Cu) cocok untuk sputtering bipolar DC, sputtering rangkap tiga, sputtering quadrupole, sputtering berkas ion, atau pemrosesan sputtering magnetron, dengan kemurnian tinggi, konduktivitas listrik dan termal yang sangat baik, tahan suhu tinggi, efisiensi produksi tinggi, dan masa pakai yang lama. Target tembaga dengan kemurnian tinggi juga sering digunakan sebagai bahan backplane untuk target lainnya, tidak hanya untuk mengurangi suhu pengoperasian dan hilangnya resistansi target, tetapi juga untuk meningkatkan distribusi medan elektromagnetik target, sehingga menghasilkan sputtering yang lebih seragam dan diperpanjang. kehidupan pelayanan.
Setelah produksi selesai, kami pasti akan melakukan kontrol kualitas dan inspeksi, lalu mengemas dan mengirimkannya. Kami berhasil mengirimkan produk ke tempat penerimaan yang ditunjuk pelanggan di Singapura dalam jangka waktu pengiriman dalam kondisi baik. Pelanggan sangat puas dengan kualitas produk dan sikap layanan kami, dan mengatakan jika ada kebutuhan untuk menghubungi kami lagi.
