Produk titanium semakin diminati di berbagai pasar, dan kami terus memperbarui teknologi kami untuk menyediakan produk berkualitas tinggi. Untuk bahan target, semakin tinggi kemurnian kimiawi logam, semakin baik konduktivitas film yang dibuat darinya. Kemurnian target sputtering titanium setinggi 99,99 persen, dan terutama diproduksi oleh pendinginan dan peleburan berkas elektron. Pada akhir bulan lalu, kami mengirimkan Titanium Sputtering Target yang diproduksi ke Singapura secara utuh melalui ekspres internasional. Harap percaya standarisasi dan keamanan kemasan produk kami. Pelanggan di Singapura sangat puas dengan produk kami. Mereka tidak hanya mengucapkan terima kasih kepada kami, tetapi juga menyatakan kesediaan mereka untuk terus bekerja sama dengan kami dalam produk titanium. Jika perlu, silakan hubungi kami melalui email.
Target Titanium Murni 99,99 persen tidak hanya memiliki keunggulan kemurnian tinggi, ketahanan aus yang baik, masa pakai yang lama, dan kualitas lapisan yang tinggi, tetapi juga mencakup semua karakteristik titanium yang sangat baik, seperti kekuatan spesifik yang tinggi, biokompatibilitas yang baik, ketahanan korosi yang baik, dan perlindungan lingkungan Performa bagus, ringan dan tahan suhu tinggi. Target Sputtering Titanium Kemurnian Tinggi umumnya terdiri dari dua jenis: target bulat dan target pelat, yang sangat cocok untuk aplikasi di industri semikonduktor, industri layar panel datar, penyimpanan informasi dan sel surya dan bidang lainnya. Film tipis yang diproduksi olehnya biasanya digunakan dalam chip VLSI Salah satu bahan film penghalang, dapat mewujudkan interkoneksi berkepadatan tinggi dan andal antara chip dan chip, dan antara chip dan substrat.
