Target Sputtering Titanium Boride

Target Sputtering Titanium Boride

FANMETAL memasok Target Sputtering Titanium Boride TiB2 yang digunakan dalam sistem pelapisan PVD. Kami juga menyediakan target logam lainnya dan bahan evaporasi dengan kemurnian tinggi 99,9999 persen, target logam mulia (Au, Ag, Pt), target bonding service, crucible liners (tembaga, molibdenum, tungsten dll), target sputtering keramik.

Titanium boride (TiB2) adalah senyawa boron dan titanium yang paling stabil. Ini memiliki konduktivitas listrik yang baik, kilau logam, kekerasan tinggi dan kerapuhan.

bubuk abu-abu atau abu-abu-hitam, titik leleh: 2980 derajat, kepadatan: 4,52 g/cmn, suhu ketahanan oksidasi dapat mencapai 1000 derajat di udara, dan stabil dalam asam HCl dan HF.

Titanium Boride Sputtering Target terutama digunakan untuk menyiapkan produk keramik komposit; itu juga dapat digunakan untuk bahan keramik konduktif, alat pemotong dan cetakan keramik, dll .; karena dapat menahan korosi logam cair, dapat digunakan untuk pembuatan cawan lebur logam cair dan elektroda sel elektrolitik.

Gambar Target Sputtering Titanium Boride:

Tag populer: Titanium Boride Sputtering Target, pemasok, produsen, pabrik, disesuaikan, grosir, harga, kutipan, untuk dijual