Target aluminium silikon (AL/SI)

Deskripsi target aluminium silikon (AL/SI)

Seleksi dan pemrosesan material

Kita dapat menggunakan metalurgi bubuk, casting, atau penekanan panas untuk produksi. Struktur internal target yang dibuat oleh metalurgi bubuk adalah seragam, yang sangat cocok untuk produksi target paduan. Casting cocok untuk produksi skala besar target kemurnian tinggi. Semua proses harus diperlakukan di permukaan dan sepenuhnya diuji untuk kualitas setelah selesai.

Karakteristik

Kemurnian tinggi, kepadatan tinggi, akurasi dimensi tinggi, kinerja pemrosesan yang baik, dan kualitas lapisan tinggi.

Resistensi korosi yang sangat baik, resistensi stabilitas tinggi, resistensi dampak, resistensi kelelahan, dan umur layanan yang panjang.

Konduktivitas listrik dan termal yang sangat baik dapat mentransmisikan arus dengan kecepatan tinggi, efek disipasi panas yang baik.

Tahan terhadap radiasi nuklir, ramah lingkungan dan tidak beracun, tingkat daur ulang yang tinggi, manfaat ekonomi gand.

Aplikasi

Target sputtering aluminium silikon (AL/SI) terutama digunakan dalam manufaktur semikonduktor, teknologi tampilan optoelektronik, sel surya, media penyimpanan magnetik, pelapis dekoratif dan lapisan yang tahan aat, dll. Lapisan, dll. Film, pelapis dekoratif berkilauan tinggi, pelapis anti-korosi, pelapis resisten suhu tinggi, film biokompatibel dan film logam atau pelapis lainnya dengan sifat yang berbeda untuk memenuhi persyaratan aplikasi.

FanMetal dapat memberi pelanggan berkualitas tinggiTarget zirkonium, Target kromium, Target titanium aluminium, Target tabung sinar-X, Target titanium ti sputteringdan target kemurnian tinggi dan target paduan lainnya, dan juga dapat memberikan produksi yang disesuaikan.

Aluminium Silicon (AL/SI) Spesifikasi target sputtering:

Aluminium Silicon (AL/SI) Sputtering Target Pictures

Tag populer: Aluminium Silicon (Al/SI) Target sputtering, pemasok, produsen, pabrik, khusus, grosir, harga, kutipan, dijual