Target Sputter Logam Kromium

Deskripsi Target Sputter Logam Kromium

Kromium memiliki titik leleh yang tinggi dan ketahanan oksidasi yang baik, sehingga target kromium tetap stabil di lingkungan bersuhu tinggi. Selain itu, karakteristik pengendapan berkas elektron dan sputtering magnetron dari target kromium memberikan keunggulan unik dalam bidang teknologi tinggi seperti pemrosesan mikroelektronika dan pelapisan optik. Target Sputter Logam Kromium adalah bahan inti untuk menyiapkan film tipis berteknologi tinggi. Mereka sering dibuat dengan peleburan vakum, metalurgi serbuk dan deposisi elektrokimia. Mereka dapat menghasilkan produk dengan kemurnian tinggi, daya rekat tinggi, keseragaman yang baik, dan ketahanan terhadap korosi. Film berkualitas tinggi dengan sifat luar biasa, tahan aus, dan tahan lama. Target Sputter Logam Kromium dapat digunakan secara luas di industri elektronik kelas atas, perangkat mikroelektronik, industri pelapisan optik, teknologi PVD, industri energi dan penerangan matahari, industri dirgantara dan industri pelapisan vakum, dll.

Spesifikasi Target Sputter Logam Kromium:

Gambar Target Sputter Logam Kromium:

Tag populer: target sputter logam kromium, pemasok, produsen, pabrik, disesuaikan, grosir, harga, kutipan, untuk dijual