Target Sputtering Titanium-Silikon

Deskripsi Target Sputtering Titanium-Silikon

Titanium-Silicon Sputtering Targets dapat memberikan lapisan material keras nitrida dengan sifat yang sangat baik, karena silikon menjamin ketahanan oksidasi yang tinggi, sedangkan titanium memberikan kekerasan khusus dan ketahanan aus. Kombinasi kedua elemen ini dapat digunakan pada suhu yang sangat tinggi. Bagian bawahnya tahan aus. Titanium-Silicon Sputtering Targets adalah target paduan yang sangat umum digunakan dalam teknologi sputtering magnetron, yang dapat dibuat menjadi target berbentuk cakram, tubular, dan pelat dengan proses pengecoran. Tujuan utamanya adalah untuk melapisi cetakan dan perkakas dengan pelapis yang keras dan tahan aus, yang dapat meningkatkan efisiensi kerja dan memperpanjang masa pakai perkakas pemrosesan. Titanium-Silicon Sputtering Target memiliki karakteristik kekuatan mekanik yang tinggi, ketahanan aus yang baik, ketahanan korosi yang kuat dan ketahanan benturan yang baik, cocok untuk pelapis kaca otomotif, industri pelapis display, industri semikonduktor, teknik elektronik, pemrosesan logam dan industri dekorasi dll.

Target Sputtering Titanium-Silikon Spesifikasi:

Titanium-Silicon Sputtering Menargetkan Gambar:

Tag populer: target sputtering titanium-silikon, pemasok, produsen, pabrik, disesuaikan, grosir, harga, kutipan, untuk dijual