Target Sputtering Molibdenum (Mo).

Deskripsi Target Sputtering Molibdenum (Mo).

Sebagai teknologi preparasi bahan film tipis yang mutakhir, sputtering memiliki dua karakteristik: "kecepatan tinggi" dan "suhu sangat rendah". Target Sputtering Molibdenum (Mo) adalah padatan yang dibombardir oleh aliran ion berkecepatan tinggi selama pemrosesan sputtering, yang dapat mengeluarkan film dengan kecerahan tinggi, warna tinggi, daya tahan, ketahanan korosi, daya rekat tinggi, dan masa pakai yang lama. Target Sputtering Molibdenum (Mo) sering kali dibuat dari bahan paduan molibdenum atau molibdenum murni melalui metalurgi serbuk atau peleburan berkas elektron. Mereka memainkan peran penting dalam bidang medis dan ilmu material, kimia, fisika dan bidang lainnya.

Penerapan Target Sputtering Molibdenum (Mo):
1. Industri elektronik: bahan target molibdenum terutama digunakan dalam layar datar, elektroda baterai film tipis dan bahan kabel serta bahan baku lapisan penghalang perangkat semikonduktor.
2. Bidang medis: Terutama digunakan di bidang medis generator sinar-X, mesin CT, peralatan MRI, dll., untuk menghasilkan sinar-X berenergi tinggi guna membantu dokter mendiagnosis dan mengobati.
3. Bidang luar angkasa: Film yang disemprotkan oleh target dapat digunakan untuk meningkatkan kinerja permukaan dan masa pakai komponen penting.
4. Bidang penelitian ilmiah: dapat membantu menyiapkan film deposisi uap kimia (CVD), analisis bahan struktur mikro.

Spesifikasi Target Sputtering Molibdenum (Mo):

Gambar Target Sputtering Molibdenum (Mo):

Tag populer: target sputtering molibdenum (mo), pemasok, produsen, pabrik, disesuaikan, grosir, harga, kutipan, untuk dijual