Target Sputtering Putar Zirkonium

Deskripsi Target Sputtering Putar Zirkonium

Target Sputtering Putar Zirkonium terbuat dari bahan zirkonium dengan kemurnian tinggi setelah serangkaian pemrosesan, dengan ukuran dan bentuk bahan zirkonium dengan kemurnian tinggi tertentu, proses penggunaannya adalah: Bahan target ditempatkan terlebih dahulu di ruang vakum, kemudian dibombardir dengan bahan zirkonium dengan kemurnian tinggi. energi ion atau elektron, sehingga atom atau molekul terlontar dari permukaan target dan diendapkan pada permukaan substrat. Target Sputtering Putar Zirkonium memiliki karakteristik kemurnian tinggi, kinerja pemrosesan yang baik, kecepatan pelapisan cepat dan kualitas tinggi, ketahanan korosi, ketahanan suhu tinggi, ketahanan aus, masa pakai yang lama, dll. Dapat memberikan ketahanan korosi yang sangat baik dan suhu tinggi dan rendah perlindungan lapisan suhu untuk bagian-bagian penting dalam industri kimia atau industri dirgantara. Ini juga dapat digunakan di industri pelapisan kaca area luas dan industri teknik elektronik.

Untuk memperpanjang masa pakai target zirkonium, kuncinya adalah memastikan kondisi yang sesuai selama penyimpanan dan penggunaan. Selama penyimpanan, target harus disimpan di lingkungan yang kering dan suhu stabil untuk menghindari oksidasi atau kerusakan struktural akibat fluktuasi kelembaban dan suhu. Selama penggunaan, penting untuk memastikan bahwa target dipakai secara merata untuk menghindari konsumsi berlebihan secara lokal. Hal ini mencakup pemeriksaan berkala terhadap target keausan dan integritas struktural, serta tindakan penyesuaian yang tepat.

Spesifikasi Target Sputtering Putar Zirkonium:

Gambar Target Sputtering Putar Zirkonium:

Tag populer: target sputtering putar zirkonium, pemasok, produsen, pabrik, disesuaikan, grosir, harga, kutipan, untuk dijual