Sasaran Sputtering Bulat Zirkonium 702

Deskripsi Target Sputtering Bulat Zirkonium 702

Deposisi film tipis (coating) adalah proses pembentukan dan pengendapan lapisan film tipis pada bahan substrat yang dapat digunakan untuk mengubah atau memperbaiki elemen tertentu dari sifat substrat. Ini adalah langkah manufaktur penting dalam produksi banyak perangkat dan produk optoelektronik, solid-state, dan medis. Zirconium 702 Round Sputtering Target merupakan target target yang paling umum digunakan dalam proses pelapisan. Dapat melapisi substrat dengan lapisan tahan aus, lapisan reflektif, lapisan konduktif, lapisan tahan korosi atau lapisan dekoratif. Semakin tinggi kemurnian bahan, semakin besar daya rekat, ketahanan aus, dan masa pakai lapisan, serta semakin kuat efek perlindungan pada produk. Zirkonium 702 Round Sputtering Target memiliki keunggulan kepadatan rendah, kekuatan spesifik tinggi, ketahanan korosi, ketahanan suhu tinggi, ketahanan aus, kinerja pemrosesan yang sangat baik, tidak beracun, non-magnetik, penampang serapan neutron termal kecil, masa pakai yang lama, dll., dan dapat digunakan secara luas. Cocok untuk pemrosesan pelapisan produk elektronik, laser serat, tampilan LED, mikroskop, laser semikonduktor, dan instrumen presisi lainnya. Jika perlu, jangan ragu untuk menghubungi kami melalui email.

Spesifikasi Target Sputtering Bulat Zirkonium 702:

Gambar Target Sputtering Bulat Zirkonium 702

Tag populer: zirkonium 702 target sputtering bulat, pemasok, produsen, pabrik, disesuaikan, grosir, harga, kutipan, untuk dijual