Target logam terdiri dari logam tunggal atau paduan logam yang telah diproses dan dimurnikan secara khusus untuk memenuhi persyaratan kemurnian tinggi dan struktur mikro tertentu. Target logam yang umum termasuk tembaga, aluminium, perak, titanium, dan paduannya. Target logam dipilih berdasarkan sifat fisik dan kimianya yang unik untuk mengoptimalkan kinerja dan efisiensi proses seperti implantasi ion dan deposisi film tipis. Perusahaan kami dapat menyediakanSasaran Sputtering Titanium Ti, 99,95% Target Sputter Zirkoniumdan target kromium dan target logam lainnya, jika Anda membutuhkannya, silakan kirim email kepada kami.
Target keramik terdiri dari senyawa bukan logam dengan kemurnian tinggi, termasuk oksida, silikat, nitrida, dan sebagainya. Target ini dibuat dengan metode sintering suhu tinggi untuk membentuk bahan padat dengan sifat kimia dan fisik yang kompleks. Komposisi uniknya memberi mereka tempat yang tak tergantikan dalam aplikasi teknologi tinggi, terutama dalam manufaktur semikonduktor, material optoelektronik, dan teknologi film tipis.
1. Kesulitan biaya dan persiapan
Persiapan target keramik sulit dilakukan, bukan hanya karena diperlukan proses sintering suhu tinggi, tetapi juga karena kebutuhan untuk mengontrol kemurnian dan struktur mikronya untuk memastikan kinerja produk akhir. Sebaliknya, proses peleburan dan pengolahan target logam relatif sederhana, dengan plastisitas tinggi serta pencetakan dan pemrosesan yang mudah.
Dari sudut pandang biaya, target logam biasanya lebih murah dibandingkan target keramik karena proses ekstraksi, pemrosesan, dan persiapan logam yang relatif sederhana. Namun pembuatan target keramik memerlukan proses yang lebih kompleks
2. Sifat fisika dan kimia
Karena struktur kimianya yang unik, target keramik biasanya memiliki kekerasan dan titik leleh yang lebih tinggi, sehingga lebih stabil pada suhu tinggi dan cocok untuk proses pengendapan film pada suhu tinggi. Terutama dalam aplikasi suhu tinggi atau lingkungan korosif. Mereka tidak mudah bereaksi dengan unsur lain, menjaga kemurnian dan stabilitas material.
Target logam cocok untuk berbagai kebutuhan persiapan bentuk yang kompleks, terutama dalam hal konduktivitas termal dan listrik yang jauh lebih unggul dibandingkan target keramik, sehingga menjadikannya lebih disukai dalam aplikasi yang memerlukan manajemen termal dan sifat listrik yang baik. Namun, bahan ini dapat teroksidasi atau menimbulkan korosi pada kondisi tertentu.
3. Bidang aplikasi
Target logam banyak digunakan dalam situasi yang memerlukan konduktivitas dan konduktivitas termal yang baik, seperti pembuatan film konduktif, film refleksi specular, dan produksi bahan magnetik. Plastisitasnya yang sangat baik juga memberi mereka keuntungan dalam pembuatan target dengan bentuk yang rumit.
Karena kemurniannya yang tinggi, stabilitas kimianya, dan titik lelehnya yang tinggi, target keramik memiliki aplikasi unik dalam manufaktur semikonduktor, pengendapan film tipis bersuhu tinggi, dan persiapan bahan fotolistrik. Aplikasi ini sering kali memerlukan material dengan standar kinerja yang sangat tinggi.
