Target Sputtering Logam

Target Sputter Kromium Kemurnian Tinggi

Deskripsi Target Sputter Kromium Kemurnian Tinggi Kromium adalah logam transisi berwarna abu-abu baja, berkilau, keras, dan rapuh. Target Sputter Kromium Kemurnian Tinggi umumnya diproduksi

Tambahkan ke Pertanyaan
99,5% Target Sputtering Boron

99,5% Target Sputtering Boron Deskripsi Target pelapisan adalah sumber sputtering yang membentuk berbagai film fungsional pada substrat dengan sputtering dalam kondisi proses yang sesuai melalui

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Molibdenum (Mo).

Molybdenum (Mo) Sputtering Target Deskripsi Sebagai teknologi preparasi bahan film tipis yang mutakhir, sputtering memiliki dua karakteristik: kecepatan tinggi dan suhu sangat rendah. Target

Tambahkan ke Pertanyaan
Sasaran Logam Titanium

Deskripsi Target Logam Titanium Target Logam Titanium terutama diproduksi dengan metode peleburan pendingin berkas elektron. Ia memiliki kemurnian tinggi, kekuatan spesifik tinggi, ketangguhan yang

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Logam Nikel

Deskripsi Target Sputtering Logam Nikel Dalam industri, nikel umumnya digunakan dalam persiapan paduan, produksi baterai, dan sebagai katalis. Khususnya di bidang material target, nikel banyak

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputter Logam Kromium

Deskripsi Target Sputter Logam Kromium Kromium memiliki titik leleh tinggi dan ketahanan oksidasi yang baik, memungkinkan target kromium tetap stabil di lingkungan bersuhu tinggi. Selain itu,

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Paduan Titanium TiAl

TiAl Titanium Alloy Sputtering Target Deskripsi Target sputtering mengacu pada bahan mentah yang digunakan dalam proses pengendapan sputtering. Ini mengacu pada proses di mana atom dikeluarkan dari

Tambahkan ke Pertanyaan
Target PVD Paduan Aluminium Titanium

Deskripsi Target PVD Paduan Aluminium Titanium Target pelapisan adalah sumber sputtering yang membentuk berbagai film fungsional pada substrat dengan sputtering dalam kondisi proses yang sesuai

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputter Bulat Boron

Deskripsi Target Sputter Bulat Boron Target Sputter Bulat Boron adalah bahan yang digunakan untuk persiapan film. Itu terbuat dari bahan borida melalui metalurgi serbuk (menekan bubuk logam di bawah

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Chromium Planar Sputtering

Chromium Planar Sputtering Target Fitur & Aplikasi Elemen kromium asli perlu dimurnikan dengan serangkaian proses seperti peleburan suhu tinggi, pemurnian dan elektrolisis, dan kemudian bahan kromium

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Chromium Sputtering 99,95 persen

99,95 persen Chromium Sputtering Target Fitur & Aplikasi 99,95 persen Chromium Sputtering Target adalah target logam dengan kemurnian tinggi, yang dapat digunakan untuk melapisi berbagai bahan dengan

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Putaran Chromium Sputtering

Chromium Sputtering Round Target Deskripsi Logam kromium terutama digunakan sebagai bahan baku untuk produksi berbagai paduan. Produksi industri logam kromium terutama mengadopsi dua metode: kromium

Tambahkan ke Pertanyaan

Kami terkenal sebagai salah satu produsen dan pemasok target sputtering logam terkemuka di Cina. Jika Anda akan membeli target sputtering logam berkualitas tinggi dengan harga bersaing, selamat datang untuk mendapatkan penawaran harga dari pabrik kami. Juga, layanan yang disesuaikan tersedia.

(0/10)