Target Sputtering Logam

Target Percikan Kromium Kemurnian Tinggi

Target Percikan Kromium Kemurnian Tinggi Deskripsi Logam kromium sangat dihargai karena ketahanan dan kekerasannya yang tinggi terhadap korosi, dan dengan menambahkan kromium logam pada baja tahan

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Percikan Putar Kromium Nikel

Deskripsi Target Sputtering Putar Kromium Nikel Target Sputtering Putar Kromium Nikel umumnya dibuat dengan peleburan dan pengecoran, setelah proses elektrolisis tiga lapis, serta serangkaian

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Paduan AISi

AISi Alloy Sputtering Target Deskripsi Target sputtering adalah bahan baku terpenting dalam teknologi pengendapan lapisan film, yang memiliki persyaratan tinggi untuk ukuran, kerataan, kehalusan,

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Aluminium Silicon Alloy

Fitur Sasaran Sputtering Aluminium Silicon Alloy: Sputtering adalah proses pelapisan yang dilakukan dalam keadaan vakum. Kualitas bahan sputtering menentukan masa pakai dan kualitas film yang

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Paduan Titanium Aluminium (Ti-Al).

Titanium Aluminium (Ti-Al) Alloy Sputter Target Deskripsi Fungsi utama dari target sputtering adalah untuk menyimpan film padat pada benda kerja untuk meningkatkan ketahanan aus dan masa pakai benda

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Titanium Aluminium Alloy

Titanium Aluminium Alloy Sputter Target Deskripsi Dibandingkan dengan proses peleburan biasa, Titanium Aluminium Alloy Sputter Target umumnya diproduksi dengan proses pengepresan isostatik panas,

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Aluminium Titanium

FANMETAL memasok target sputtering aluminium titanium paduan Ti-Al yang digunakan dalam sistem pelapisan PVD. Kami juga menyediakan target logam lainnya dan bahan evaporasi dengan kemurnian tinggi

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Percikan Chrome Kemurnian Tinggi

Target Chrome Sputtering Kemurnian Tinggi Deskripsi & Aplikasi Dikenal karena kilau spekulernya yang tinggi dan ketahanan terhadap korosi, logam krom adalah salah satu logam paling populer di dunia.

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Chromium Cr Sputter

Chromium Cr Sputter Deskripsi Target Chromium adalah logam transisi abu-abu baja yang keras dan rapuh yang sangat dihargai karena ketahanan dan kekerasannya yang tinggi terhadap korosi. Chromium Cr

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Putar Molibdenum Kemurnian Tinggi

Target Putar Molibdenum Kemurnian Tinggi Target Putar Molibdenum tersedia dalam berbagai bentuk, kemurnian, ukuran, dan harga. Target molibdenum putar adalah serangkaian produk olahan dari bahan

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputter Mo Kemurnian Tinggi

Target Sputter Mo Kemurnian Tinggi Perusahaan memproduksi kotak logam kemurnian tinggi Target Sputter Mo Kemurnian Tinggi dengan hak kekayaan intelektual independen, yang telah digunakan dalam

Tambahkan ke Pertanyaan
Mo Sputtering Target

Model Target Sputtering Mo tidak. :Mo Sputtering Target Standar: ASTM, GB Permukaan: Dipoles, Cynomolgus Aplikasi: Permukaan Lapisan Kemurnian: minimum 99,95 persen Kepadatan: 10,2 g/cm3 Aplikasi:

Tambahkan ke Pertanyaan

Rumah 4 5 6 789 10 Halaman terakhir 8/10

Kami terkenal sebagai salah satu produsen dan pemasok target sputtering logam terkemuka di Cina. Jika Anda akan membeli target sputtering logam berkualitas tinggi dengan harga bersaing, selamat datang untuk mendapatkan penawaran harga dari pabrik kami. Juga, layanan yang disesuaikan tersedia.

(0/10)