Sputtering Target

Target Sputtering Aluminium Chromium Alloy

Aluminium Chromium Alloy Sputtering Target Fitur & Aplikasi Aluminium Chromium Alloy Sputtering Target dapat dengan mudah menahan suhu yang sangat tinggi, tekanan tinggi dan berbagai kondisi ekstrim

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Percikan Kromium Aluminium

Aluminium Chromium Sputtering Target Deskripsi Aluminium, salah satu logam paling umum di dunia, ringan, mudah dibentuk, dan non-magnetik. Chromium adalah logam perak-putih dengan ketahanan korosi

Tambahkan ke Pertanyaan
Zirkonium Titanium Sputter Target

Zirkonium Titanium Sputter Target Deskripsi Zirkonium adalah logam transisi kuat putih berkilau yang dapat digunakan sebagai elemen paduan, dan bahan paduan yang dihasilkan memiliki sifat mekanik

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Zirkonium Titanium

Zirkonium Titanium Sputtering Deskripsi Target Zirkonium adalah bahan logam keras, berkilau, keperakan, dan titanium adalah bahan logam industri militer atau sipil yang paling umum digunakan.

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Titanium Zirkonium Alloy

Titanium Zirkonium Alloy Sputtering Deskripsi Target Proses target sputtering menjamin ketahanan korosi yang sangat baik bahkan di bawah kondisi lingkungan yang sangat keras seperti uap korosif dan

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Titanium Sputtering 99,9 persen

99,9 persen Titanium Sputtering Target Deskripsi Titanium adalah bahan umum yang dapat ditemukan di berbagai produk antara lain jam tangan, bor, laptop, dan sepeda. Sifatnya yang kuat, ringan, dan

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Titanium Silicon Alloy

Titanium Silicon Alloy Sputtering Target Deskripsi Target sputtering adalah bagian penting dari pengoperasian teknologi sputtering magnetron, yang dapat dibagi menjadi tiga jenis: logam, paduan, dan

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Titanium Silicon Sputter

Titanium Silicon Sputter Target Deskripsi Magnetron sputtering coating adalah jenis baru dari metode pelapisan uap fisik, yang menggunakan sistem senjata elektron untuk memancarkan dan memfokuskan

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Titanium Silicon Planar Sputtering

Titanium Silicon Planar Sputtering Target Deskripsi Titanium silisida adalah senyawa anorganik yang biasanya diproduksi dengan memanfaatkan teknik silisida pada jalur silikon dan polisilikon untuk

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Percikan Chromium Titanium

Chromium Titanium Sputtering Target Deskripsi Target adalah bahan target yang dibombardir oleh partikel energik berkecepatan tinggi. Ketika laser dengan kerapatan daya berbeda, bentuk gelombang

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Titanium Chromium Alloy

Titanium Chromium Alloy Sputtering Target Deskripsi Sebagai lapisan bahan keras dengan kinerja sangat baik, bahan paduan titanium-aluminium dapat melindungi komponen dari keausan intensitas tinggi

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Percikan Titanium Murni

Fitur Target Percikan Titanium Murni: Dibandingkan dengan target lain, target logam memiliki permintaan pasar yang lebih tinggi daripada target keramik, kinerjanya lebih tinggi, dan masa pakai lebih

Tambahkan ke Pertanyaan

Rumah 5 678 9 10 11 Halaman terakhir 7/11

Kami terkenal sebagai salah satu produsen dan pemasok target sputtering terkemuka di Cina. Jika Anda akan membeli target sputtering berkualitas tinggi dengan harga bersaing, selamat datang untuk mendapatkan penawaran harga dari pabrik kami. Juga, layanan yang disesuaikan tersedia.

(0/10)