Sputtering Target

Target PVD Paduan Aluminium Titanium

Deskripsi Target PVD Paduan Aluminium Titanium Target pelapisan adalah sumber sputtering yang membentuk berbagai film fungsional pada substrat dengan sputtering dalam kondisi proses yang sesuai

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputter Bulat Boron

Deskripsi Target Sputter Bulat Boron Target Sputter Bulat Boron adalah bahan yang digunakan untuk persiapan film. Itu terbuat dari bahan borida melalui metalurgi serbuk (menekan bubuk logam di bawah

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Chromium Planar Sputtering

Chromium Planar Sputtering Target Fitur & Aplikasi Elemen kromium asli perlu dimurnikan dengan serangkaian proses seperti peleburan suhu tinggi, pemurnian dan elektrolisis, dan kemudian bahan kromium

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Chromium Sputtering 99,95 persen

99,95 persen Chromium Sputtering Target Fitur & Aplikasi 99,95 persen Chromium Sputtering Target adalah target logam dengan kemurnian tinggi, yang dapat digunakan untuk melapisi berbagai bahan dengan

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Putaran Chromium Sputtering

Chromium Sputtering Round Target Deskripsi Logam kromium terutama digunakan sebagai bahan baku untuk produksi berbagai paduan. Produksi industri logam kromium terutama mengadopsi dua metode: kromium

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Putaran Titanium Chromium Alloy

Titanium Chromium Alloy Round Target dapat digunakan untuk membuat substrat atau pelapis permukaan, dan dapat digunakan di bidang pisau mekanis, dekorasi mobil dan sepeda motor, cangkang produk IT

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Titanium Chromium Planar

Titanium Chromium Planar Target sangat cocok untuk pelapis tahan korosi dan tahan aus, yang dapat melindungi peralatan yang bekerja di lingkungan kimia yang sangat korosif dan lingkungan bersuhu

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Titanium Aluminium Sputter

Target Titanium Aluminium Sputter memiliki karakteristik yang sangat baik dari logam titanium dan logam aluminium, seperti keuletan tinggi, ketahanan aus yang tinggi, konduktivitas listrik dan termal

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Titanium-Aluminium

Target Titanium-Aluminium dapat meningkatkan kekerasan dan masa pakai alat pemotong, dan banyak digunakan dalam pelapis alat perangkat keras, pelapis dekoratif, pelapis layar datar, pemrosesan PVD

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Titanium Ti

Titanium Ti Sputtering Target sering digunakan untuk deposisi sputtering dari film titanium murni atau deposisi sputtering reaktif dari film TiN, terutama digunakan sebagai lapisan penghalang difusi

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Titanium Murni 99,99 persen

Target Titanium Murni 99,99 persen tidak hanya memiliki keunggulan kemurnian tinggi, ketahanan aus yang baik, masa pakai yang lama, dan kualitas lapisan yang tinggi, tetapi juga mencakup semua

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Titanium-Silikon

Target Sputtering Titanium-Silikon Deskripsi Target Sputtering Titanium-Silikon dapat memberikan lapisan material keras nitrida dengan sifat yang sangat baik, karena silikon menjamin ketahanan

Tambahkan ke Pertanyaan

Rumah 2 3 4 5 6 7 8 Halaman terakhir 5/11

Kami terkenal sebagai salah satu produsen dan pemasok target sputtering terkemuka di Cina. Jika Anda akan membeli target sputtering berkualitas tinggi dengan harga bersaing, selamat datang untuk mendapatkan penawaran harga dari pabrik kami. Juga, layanan yang disesuaikan tersedia.

(0/10)