Sputtering Target

Target Sputtering Putar Zirkonium

Deskripsi Target Sputtering Putar Zirkonium Target Sputtering Putar Zirkonium terbuat dari bahan zirkonium dengan kemurnian tinggi setelah serangkaian pemrosesan, dengan ukuran dan bentuk bahan

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Planar Zirkonium 702

Deskripsi Target Planar Zirkonium 702 Zirkonium adalah elemen logam dengan ketahanan korosi yang sangat baik, titik leleh tinggi, dan sifat mekanik yang baik, sehingga berguna dalam berbagai aplikasi

Tambahkan ke Pertanyaan
Sasaran Bulat Zirkonium 702

Deskripsi Target Bulat Zirkonium 702 Zirkonium adalah logam transisi kuat berwarna abu-abu-putih berkilau yang banyak digunakan dalam industri nuklir dan ruang angkasa. Target Bulat Zirkonium 702

Tambahkan ke Pertanyaan
99,95% Target Sputter Zirkonium

99,95% Zirkonium Sputter Target Deskripsi Magnetron sputtering adalah metode pelapisan uap fisik baru, yang menggunakan sistem senjata elektron untuk memancarkan elektron dan fokus pada material yang

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Titanium Kemurnian Tinggi

Deskripsi Target Titanium Kemurnian Tinggi Titanium adalah logam tahan api paramagnetik dengan ketangguhan yang kuat dan kekuatan tinggi, terutama di lingkungan bebas oksigen. Untuk target, semakin

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputter Kromium Kemurnian Tinggi

Deskripsi Target Sputter Kromium Kemurnian Tinggi Kromium adalah logam transisi berwarna abu-abu baja, berkilau, keras, dan rapuh. Target Sputter Kromium Kemurnian Tinggi umumnya diproduksi

Tambahkan ke Pertanyaan
99,5% Target Sputtering Boron

99,5% Target Sputtering Boron Deskripsi Target pelapisan adalah sumber sputtering yang membentuk berbagai film fungsional pada substrat dengan sputtering dalam kondisi proses yang sesuai melalui

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Molibdenum (Mo).

Molybdenum (Mo) Sputtering Target Deskripsi Sebagai teknologi preparasi bahan film tipis yang mutakhir, sputtering memiliki dua karakteristik: kecepatan tinggi dan suhu sangat rendah. Target

Tambahkan ke Pertanyaan
Sasaran Logam Titanium

Deskripsi Target Logam Titanium Target Logam Titanium terutama diproduksi dengan metode peleburan pendingin berkas elektron. Ia memiliki kemurnian tinggi, kekuatan spesifik tinggi, ketangguhan yang

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Logam Nikel

Deskripsi Target Sputtering Logam Nikel Dalam industri, nikel umumnya digunakan dalam persiapan paduan, produksi baterai, dan sebagai katalis. Khususnya di bidang material target, nikel banyak

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputter Logam Kromium

Deskripsi Target Sputter Logam Kromium Kromium memiliki titik leleh tinggi dan ketahanan oksidasi yang baik, memungkinkan target kromium tetap stabil di lingkungan bersuhu tinggi. Selain itu,

Tambahkan ke Pertanyaan
Target Sputtering Paduan Titanium TiAl

TiAl Titanium Alloy Sputtering Target Deskripsi Target sputtering mengacu pada bahan mentah yang digunakan dalam proses pengendapan sputtering. Ini mengacu pada proses di mana atom dikeluarkan dari

Tambahkan ke Pertanyaan

Kami terkenal sebagai salah satu produsen dan pemasok target sputtering terkemuka di Cina. Jika Anda akan membeli target sputtering berkualitas tinggi dengan harga bersaing, selamat datang untuk mendapatkan penawaran harga dari pabrik kami. Juga, layanan yang disesuaikan tersedia.

(0/10)